产品说明

PS-b-PMMA是两亲/非两亲型二嵌段共聚物，由聚苯乙烯（PS）链段与聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）链段通过共价键连接而成。PS链段疏水性强、刚性好、玻璃化转变温度高，具备优良的成膜性；PMMA链段同样为疏水链段，透光性优良、表面*性高于PS，与多种无机填料、基底界面相容性良好。两个热力学不相容的链段在本体、薄膜、溶液体系中会发生微相分离，自发形成球形、柱状、层状等有序纳米畴结构，是软刻蚀、纳米模板、自组装光刻领域很主流的嵌段共聚物原料。

本品外观多为白色粉末或颗粒，可溶于甲苯、二氯甲烷、氯仿、THF等有机溶剂，不溶于水、醇类。PS-b-PMMA化学稳定性好，耐酸碱；两条链段均无反应活性基团，属于惰性嵌段共聚物，不能直接共价偶联生物分子；可通过调控分子量、PS/PMMA质量比，精准调控微相分离周期尺寸。对比PS-b-PDLLA这类可降解嵌段，PS-b-PMMA不可生物降解，结构抗溶剂、抗水解能力更强；对比*性嵌段共聚物，它在中性基底上自组装有序度高，是光刻模板的首选体系。产品经过GPC、¹H NMR表征，分子量分布窄，批次均一，多用于材料科学研究，仅限科研使用。

产品应用
PS-b-PMMA很核心用途是嵌段共聚物光刻（BCP光刻）、纳米模板制备。旋涂成膜后经退火诱导微相分离，形成周期可控的有序纳米图案，作为刻蚀掩膜，转移图案到硅片、二氧化硅基底，制备高密度纳米孔、纳米柱阵列，用于半导体纳米加工、磁存储、纳米器件底层模板。
其次用于薄膜自组装、纳米复合膜制备。与纳米颗粒、量子点、UCNPs共混，依靠微相分离实现纳米颗粒分区限域排布，构建有序发光薄膜、介孔功能膜；也用于光子晶体、有序多孔材料制备，选择性刻蚀去除其中一个链段，得到周期性多孔模板。
同时可作为高分子基质、增容剂使用。添加到PS、PMMA共混体系，降低两相界面张力，改善共混材料相容性；也用于聚合物薄膜界面调控，调控薄膜表面浸润性、粘附性能。

使用方法
储存与溶解
-20℃密封干燥保存，避光；粉末易静电吸附，取用注意。常用溶剂为THF、甲苯，配制成一定浓度旋涂液；充分搅拌溶解，可适度加热助溶。
薄膜制备与退火
配制稀溶液旋涂在硅片、石英基底上，得到均匀薄膜；采用热退火或溶剂蒸汽退火，诱导微相分离。退火温度介于两个链段Tg之间，根据分子量优化退火时间。如需制孔，可采用选择性刻蚀（紫外+湿法刻蚀优先去除PMMA相）。
复合体系共混
与无机纳米颗粒溶于共同有机溶剂，搅拌混匀后成膜，依靠微相分离实现颗粒定向组装。
注意事项
无活性基团，无法直接偶联蛋白、多肽；不可降解，生物体系*少使用；有机溶剂易燃，操作通风；控制退火条件，退火不足会导致有序度差；PMMA相优先被紫外降解，可利用该特性选择性刻蚀。