PS-b-PMMA 聚苯乙烯-b-聚甲基丙烯酸甲酯 横幅背景

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共聚物定制

PS-b-PMMA 聚苯乙烯-b-聚甲基丙烯酸甲酯

Polystyrene-b-Poly (methyl methacrylate

上传时间:2026-10-13上传人:mykj2013

货号:R-716519
性状:液体
产品分类:共聚物定制
产品类型:定制产品
保质期:一年
供货商:西安瑞禧生物
货号 规格 价格
R-716519 5ml
R-716519 10ml
R-716519 20ml

价格随规格与市场行情浮动,具体报价请拨打订购热线 13232957081(微信同号) 或在线询价。

本产品仅供科学研究使用,不得用于人体诊断或治疗。询价请拨打订购热线 13232957081(微信同号)(微信同号),或联系邮箱 sales@ruixitech.com。
产品名称PS-b-PMMA 聚苯乙烯-b-聚甲基丙烯酸甲酯
别称Polystyrene-b-Poly (methyl methacrylate
性状液体
分子量N/A
分子式N/A
溶解性分散于纯水或有机溶剂
储存4℃
保质期一年
运输条件低温运输
供货商西安瑞禧生物

产品说明

PS-b-PMMA,聚苯乙烯-b-聚甲基丙烯酸甲酯,是惰性非响应型二嵌段硬段-硬段嵌段共聚物,多采用 RAFT、ATRP 活性聚合制备,分子量精准可控、分散度窄,是高分子自组装、薄膜相分离、纳米光刻模板领域经典材料。PS 聚苯乙烯与 PMMA 聚甲基丙烯酸甲酯热力学不相容,固态下会发生微相分离,自发形成有序纳米畴结构,形貌由两段链长比例决定,可以得到球状、柱状、层状相分离形貌。

PS 与 PMMA 都属于玻璃态高分子,常温下刚性、力学性能稳定,没有 pH、氧化等环境响应性,化学惰性强,耐多数水溶液缓冲体系。二者对不同刻蚀气体、溶剂的耐受性有差异:PMMA 可以被特定溶剂或者等离子刻蚀选择性去除,PS 保留,或者反过来,利用这个特性制备有序纳米孔模板、纳米线掩膜板、光刻模板。

可定制不同分子量、不同嵌段比例的产品,调控相分离周期与形貌尺寸。可溶于 THF、甲苯、二氯甲烷等有机溶剂,成膜性优异,适合旋涂制备超薄有序薄膜。主要应用方向:纳米刻蚀模板、有序多孔材料制备、高分子相分离基础研究、薄膜物理、光子晶体前驱、分离膜基底材料。该材料一般不直接用于药物递送,因为两段均疏水、无亲水链,难以在水相中形成稳定胶束,更多面向软物质物理、微纳加工、光刻、模板工程方向。

质控方式以 GPC 测分子量与 PDI、HNMR 核磁确定嵌段比例、AFM/SEM 观测薄膜微相分离形貌。固体粉末常温干燥避光保存,稳定性高,不易变质。PS-b-PMMA 是研究嵌段共聚物微相分离的标准模型聚合物,很多微纳加工实验室常备,用于自上而下结合自下而上的纳米图案制备。仅用于科研实验,不用于体内生物载体。

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